展締科技(原名: 歐菲科技)股份有限公司_FHR 真空鍍膜設備
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FHR Anlagenbau GmbH

公司簡介

薄膜技術中的工程先驅

公司成立於1991年,是由以德累斯頓為主的一群工程師組成的,FHR Anlagenbau GmbH公司是一家專注於真空製程技術和專用生產設備製造的創新公司。他們利用在薄膜技術多年的經驗,同時建立了世界級最先進的薄膜應用解決方案與量身定制的生產設備。


今天FHR Anlagenbau GmbH位於Ottendorf- Okrilla的總部擁有近165個員工。本公司在真空製程系統上是公認最成功的工程公司,在全球的研究與產業上擁有不少的客戶群。


在2008年FHR Anlagenbau GmbH被centrotherm photovoltaics AG併購, centrotherm百分之百的子公司。Centrotherm是在太陽能電池和晶矽的生產技術、設備和服務上具有全球領先地位的供應商。


我們在薄膜技術的核心技能



  • 反應式性和非反應性的磁控濺射,真空條件下的蒸鍍,以及化學氣相沉積和電漿輔助化學氣相沉積對金屬、氧化物和氮化物進行高效率的沉積。

  • 等離子蝕刻技術進行表面處理和超效能的材料去除(高速率蝕刻)。

  • 在複雜的三維表面結構,原子層沉積對於切割超薄功能層能有均勻的厚度。


我們的核心技能在建造專用的生產設備:



  • 集群系統適用於小面積和矽晶片基板的處理和濺鍍。

  • 捲對捲系統適用於鋁箔和軟性基板之濺鍍(捲繞式設備)。

  • 在線式系統適用於大面積沉積和建築玻璃濺鍍。

  • ALD反應器適用於原子層的沉積。

  • 電漿源和氣體調節系統。

  • 單一靶材及焊合的靶材。


產品

光學塗層- 我們的產品適用於產業和研究開發

專用的生產系統:
  1. 群集系統:群集系統

    請聯繫我們以獲得更多的細節。

  2. 在線式系統 :在線式系統

    請聯繫我們以獲得更多的細節。

  3. ALD反應器:ALD反應器

    請聯繫我們以獲得更多的細節。

  4. 焊合的濺鍍靶材:焊合的濺鍍靶材

    請聯繫我們以獲得更多的細節。

在客製要求的基礎上,可以整合的製程技術:
    • 磁控濺鍍。
    • 熱蒸發。
    • 化學氣相沉積法(CVD)/ 電漿增強化學氣相沉積法(PECVD)。
    • 原子層沉積(ALD)。
    • 電漿刻蝕(PE)/ 反應式離子刻蝕(RIE)。
    • 退火(FLA & RTP)。

捲繞式鍍膜- 我們的產品適用於產業和研究開發

捲繞式鍍膜生產設備
  1. 捲對捲系統:捲對捲系統

    請聯繫我們以獲得更多的細節。

  2. 焊合的濺射靶材:焊合的濺射靶材

    請聯繫我們以獲得更多的細節。

在客製要求的基礎上,可以整合的製程技術:
    • 磁控濺鍍。
    • 熱蒸發。
    • 化學氣相沉積法(CVD)/ 電漿增強化學氣相沉積法(PECVD)。
    • 電漿刻蝕(PE)/ 反應式離子刻蝕(RIE)。
    • 退火(FLA & RTP)。

半導體- 我們的產品應用於產業和研究

對於半導體之特殊廠房建構
  1. 群集系統:群集系統

    請聯繫我們以獲得更多的細節。

  2. 在線式系統 :在線式系統

    請聯繫我們以獲得更多的細節。

  3. 捲對捲系統:捲對捲系統

    請聯繫我們以獲得更多的細節。

  4. ALD反應器(原子層):ALD反應器(原子層)

    請聯繫我們以獲得更多的細節。

  5. 焊合的濺鍍靶材:焊合的濺鍍靶材

    請聯繫我們以獲得更多的細節。

在客製要求的基礎上,可以整合的製程技術:
    • 磁控濺鍍。
    • 熱蒸發。
    • 化學氣相沉積法(CVD)/ 電漿增強化學氣相沉積法(PECVD)。
    • 原子層沉積(ALD)。
    • 電漿刻蝕(PE)/ 反應式離子刻蝕(RIE)。
    • 退火(FLA & RTP)。

圓管濺鍍(太陽熱能濺鍍) - 我們的產品適用於產業和研究開發

對於太陽熱能應用之生產設備
  1. 在線式系統 :在線式系統

    請聯繫我們以獲得更多的細節。

  2. 群集系統:群集系統

    請聯繫我們以獲得更多的細節。

  3. 焊合的濺鍍靶材:焊合的濺鍍靶材

    請聯繫我們以獲得更多的細節。

在客製要求的基礎上,可以整合的製程技術:
    • 磁控濺鍍。
    • 熱蒸發。
    • 電漿刻蝕(PE)/ 反應式離子刻蝕(RIE)。
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