展締科技(原名: 歐菲科技)股份有限公司_FHR CIGS, CIS, CdTe薄膜太陽能真空鍍膜設備
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FHR Anlagenbau GmbH

公司簡介

薄膜技術中的工程先驅
公司成立於1991年,是由以德累斯頓為主的一群工程師組成的,FHR Anlagenbau GmbH公司是一家專注於真空製程技術和專用生產設備製造的創新公司。他們利用在薄膜技術多年的經驗,同時建立了世界級最先進的薄膜應用解決方案與量身定制的生產設備。

今天FHR Anlagenbau GmbH位於Ottendorf- Okrilla的總部擁有近165個員工。本公司在真空製程系統上是公認最成功的工程公司,在全球的研究與產業上擁有不少的客戶群。



在2008年FHR Anlagenbau GmbH被centrotherm photovoltaics AG併購, centrotherm百分之百的子公司。Centrotherm是在太陽能電池和晶矽的生產技術、設備和服務上具有全球領先地位的供應商。



我們在薄膜技術的核心技能





  • 反應式性和非反應性的磁控濺射,真空條件下的蒸鍍,以及化學氣相沉積和電漿輔助化學氣相沉積對金屬、氧化物和氮化物進行高效率的沉積。


  • 等離子蝕刻技術進行表面處理和超效能的材料去除(高速率蝕刻)。


  • 在複雜的三維表面結構,原子層沉積對於切割超薄功能層能有均勻的厚度。




我們的核心技能在建造專用的生產設備:





  • 集群系統適用於小面積和矽晶片基板的處理和濺鍍。


  • 捲對捲系統適用於鋁箔和軟性基板之濺鍍(捲繞式設備)。


  • 在線式系統適用於大面積沉積和建築玻璃濺鍍。


  • ALD反應器適用於原子層的沉積。


  • 電漿源和氣體調節系統。


  • 單一靶材及焊合的靶材。



FHR技術

磁控濺射

濺鍍陰極材料的薄膜

  • 金屬、合金、氧化物和氮化物的沉積。
  • 反應和非反應式的磁控濺射技術。

濺鍍沉積是一種薄膜形成技術,被歸類為物理氣相沉積(PVD)。利用電漿對目標物靶材進行離子轟擊,藉由離子轟擊的動量轉移撞擊靶材表面的原子,使它以氣體分子的形式發射出來,並到達所要沉積的基板上,再經過附著、吸附、表面遷徙、成核的過程在基板上形成薄膜的一種製程。

FHR在濺鍍沉積的領域是一個全球性的技術領導者。在反應式與非反應式的磁控濺鍍製程,配合我們獨特的專有技術來決定採用直流電,脈衝直流,中頻或高頻電源。在這些最適合客戶需要的濺鍍技術中,取決於所用材料,需要的膜層特性和沉積速率,這些都是被納入量身定制的濺鍍系統中所要考量的選項。

濺鍍技術整合選項

  • 集群系統。
  • 捲對捲系統。
  • 在線式系統。

磁控濺射的典型應用

  • 半導體。
  • OLED顯示器。
  • 微機電和奈米機電系統。
  • 光學。
  • 建築玻璃。
  • 太陽能。
  • 太陽熱能。
蒸鍍沉積法

水汽顆粒凝結的功能層

  • 有非常高的沉積速率。
  • 共蒸發製程對於個別材料混合之可能性也很好。

真空蒸氣沉積是一種物理氣相沉積(PVD)技術,就如同濺鍍沉積(磁控濺射)。由於磁控濺鍍的離子衝擊造成濺鍍材料轉變成汽相,熱蒸汽沉積為一種以加熱器加熱其濺鍍材料的專門設計,它可以利用蒸發(成液體)或昇華(成固體)使其產生的蒸汽顆粒濺鍍沉積於基板上。

在不同的PVD薄膜技術中,蒸鍍沉積有特別高的沉積速度,取決於塗層材料及所需的膜層屬性。為了確保我們的客戶能得到蒸鍍的最佳製程結果,我們的產品設計可以符合不同的蒸鍍源(坩堝或火泥箱,直線式或噴射式蒸發器,或客製的的蒸發器)。

熱蒸鍍整合選項

  • 集群系統。
  • 捲對捲系統。
  • 在線式系統。

典型熱蒸鍍的應用

  • 半導體。
  • 感測器。
  • 微機電和奈米機電系統。
  • 光學。
  • 太陽能。

產品

太陽能- 我們的產品適用於產業和研究開發

太陽能應用之特定建構
  1. 在線式系統在線式系統

    在線式概念對於大面積基板作高效率的沉積與塗佈是最佳的方案。我們提供的在線式方案針對您的基板尺寸,可量身定位基板水平傳送或垂直傳送。手動或全自動化的輸送模式以基板是否需要經過加熱或蝕刻前製程處理,皆能配合客戶需求,整合到系統中。 (請聯繫我們以獲得更多細節)

  2. 捲對捲系統捲對捲系統

    現代化電子設備應該是有”硬”也有”軟”。我們捲對捲的濺鍍系統提供了正確的生產概念,如軟性太陽能電池,有機顯示器薄膜或“可翹曲的”感測器。我們是以金屬和塑料當作襯底材料,而塗層之寬度按個別客戶之求而提供不同尺寸。我們的理念提供了濺鍍和蒸鍍的製程範疇最大的靈活性。一個可自由編程的捲繞式系統和閉鎖迴路控制的基板溫度,讓系統能在游刃有餘的製程窗口下,處理各種不同材質及厚度的基板。我們有足夠的專業知識能整合客戶即時的製程測量設備及在線的製程控制系統(請聯繫我們以獲得更多細節)

  3. 群集系統群集系統

    我們的群集系統對高端研發應用而言是首選的系統,在針對設備的製程腔體和一般基板的處理能力有著無與倫比的靈活性。在微電子和矽晶片類基板製程中,其群集的概念為業界的標準解決方案。選擇全部操之在你:我們可以為你所選擇的製程與基材提供一模組化的解決方案,而目前已經有許多成功之案例。然而,我們也樂於為您所需的配置開發一個單獨的解決方案。(請聯繫我們以獲得更多細節)

  4. 焊合的濺鍍靶材焊合的濺鍍靶材

    FHR在靶材的焊合上擁有多年的經驗,並擁有獨到且不斷進步的專有技術。因此,我們特別高興能為我們的客戶提供旋轉靶的接合。目前,我們所生產的圓柱型靶材高度可達2500毫米。 (請聯繫我們以獲得更多細節)

在客製要求的基礎上,可以整合的製程技術:
    • 磁控濺鍍。
    • 熱蒸發。
    • 化學氣相沉積法(CVD)/ 電漿增強化學氣相沉積法(PECVD)。
    • 原子層沉積(ALD)。
    • 電漿刻蝕(PE)/ 反應式離子刻蝕(RIE)。
    • 退火(FLA & RTP)。
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