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FHR｜Thin-Film Technology
Applicable to semiconductor applications, optical coating processes, and R&D
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Applicable to semiconductor applications, optical coating processes, and R&D

Applicable to semiconductor applications, optical coating processes, roll-to-roll (R2R) coating industries, and Research & Development (R&D).

Specifications and Description

半導體應用之特殊廠房建構：
群集系統：


在線式系統：

ALD反應器：


焊合的濺鍍靶材：

在客製要求的基礎上，可以整合的製程技術：
  • 磁控濺鍍
  • 熱蒸發
  • 化學氣相沉積法（CVD）/ 電漿增強化學氣相沉積法（PECVD）
  • 原子層沉積（ALD）
  • 電漿刻蝕（PE）/ 反應式離子刻蝕（RIE）
  • 退火（FLA ＆ RTP）


光學塗層應用之專用的生產系統：

群集系統：


在線式系統：


ALD反應器：


焊合的濺鍍靶材：


在客製要求的基礎上，可以整合的製程技術：
  • 磁控濺鍍
  • 熱蒸發
  • 化學氣相沉積法（CVD）/ 電漿增強化學氣相沉積法（PECVD）
  • 原子層沉積（ALD）
  • 電漿刻蝕（PE）/ 反應式離子刻蝕（RIE）
  • 退火（FLA ＆ RTP）



捲繞式鍍膜之生產設備：

捲對捲系統：


焊合的濺射靶材：


在客製要求的基礎上，可以整合的製程技術：
  • 磁控濺鍍
  • 熱蒸發
  • 化學氣相沉積法（CVD）/ 電漿增強化學氣相沉積法（PECVD）
  • 電漿刻蝕（PE）/ 反應式離子刻蝕（RIE）
  • 退火（FLA ＆ RTP）

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